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动态和静态真空漏率区别是什么?
发布时间:2015-01-16 浏览:6272 次

  动态真空系统允许漏率

  所谓动态真空系统,指工作时泵仍然对它 进行抽气的系统,如真空冶炼炉,真空镀膜机,粒子加速器等。

  例如:一台镀膜机,对蒸发室的有效抽速S为100L/S ,要求达到的极限压力 P0 为1*10-5 帕,那么该镀膜机的允许漏率[Ql]=(1/10)SP0=1*10-4 帕升/秒

  静态真空系统的允许漏率

  所谓静态真空系统,即工作时已与泵隔离的真空系统,一般又称密闭容器或密闭器件,如显 像管,电子管等。

  例如:某只电子管,其内腔容积为 0.1L ,封离时的压力 P0 为 1*10-7帕,电子管正常工作的最高压力P1为1*10-3 帕,要求器件保存和工作的时间T为 50000H 。

  那么,该电子管允许 漏率应为 [Ql]=(1/10)V ( P1-P0 ) /T=3.6*10-14 帕升/秒

 

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